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電鍍?cè)O(shè)備的工藝要求

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電鍍?cè)O(shè)備的工藝要求

發(fā)布日期:2016-08-23 12:56 來(lái)源:http://foleyandcorinna.cn 點(diǎn)擊:

電鍍?cè)O(shè)備的工藝要求

電鍍?cè)O(shè)備的工藝要求
1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應(yīng)有良好的結(jié)合力。
2. 鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。
3. 鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo),如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。
5. 電鍍時(shí)間及電鍍過(guò)程的溫度,決定鍍層厚度的大小。
6.環(huán)境溫度為-10℃~60℃。
7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8.水處理設(shè)備最大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。
9.相對(duì)濕度(RH)應(yīng)不大于95%。
10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。


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